精密激光標刻系統

                          精密激光標刻系統



                          樣品圖片



                          主要特點


                          精密激光打標機的光束質量極好,為基模輸出,光束聚焦后達到微米級,適用于精密標刻、精細標刻。此款光纖激光標刻系統體積小巧、搬運方便、實現便攜化。激光輸出功率穩定、能量波動低于2%,設備可靠性高,理論上平均無故障運行可達10萬小時。



                          設備性能


                          精密激光標刻系統在激光標刻應用方面具有許多獨特的優勢。與傳統的固體激光器使用晶體棒作為激光介質不同,光纖激光標刻系統的光纖激光器的激光介質是很長的摻鐿雙包層光纖,并被高功率多模激光二極管所泵浦。


                          應用領域


                          陶瓷材料器件、電子元器件、電工產品、IT產業、汽車配件、精密器械、醫療器械等精細標記及深雕。


                          設備技術參數

                             

                          設備型號

                          RF-DF20

                          RF-DF30

                          RF-DF50


                          輸出功率

                          20W

                          30W

                          50W


                          激光波長

                          1055nm1070nm

                          脈沖寬度

                          0.5ns400ns

                          激光頻率

                          1KHz2000KHz

                          標記范圍

                                    100mm×100mm(可選)

                          標記方式

                          靜態或動態標記(可選)

                          光斑直徑

                                            0.03mm0.05mm

                          冷卻方式

                          風冷

                          設備功耗

                                           700W900W

                          電力要求

                          單相200V/5060Hz.5A

                          環境要求

                          溫度:13°~35°

                          濕度:5% 85%



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